ما هو الهدف المعدني؟
تعتبر المادة المستهدفة إحدى المواد الرئيسية لتحضير الأغشية الرقيقة. يتم استخدامه بشكل أساسي في الدوائر المتكاملة، وشاشات العرض المسطحة، والخلايا الشمسية، ووسائط التسجيل، والزجاج الذكي، وما إلى ذلك، وله متطلبات عالية لنقاء المواد واستقرارها.
مبدأ العمل لرش المواد المستهدفة: يعد الرش أحد التقنيات الرئيسية لإعداد مواد الأغشية الرقيقة. ويستخدم الأيونات الناتجة عن مصدر أيوني للتسريع والتجمع في الفراغ لتكوين شعاع أيوني طاقة عالي السرعة لقصف السطح الصلب. تتبادل الأيونات والذرات الموجودة على السطح الصلب الطاقة الحركية، مما يتسبب في مغادرة الذرات الموجودة على السطح الصلب للمادة الصلبة وترسبها على سطح الركيزة. المادة الصلبة المقذوفة هي المادة المستهدفة المتطايرة.
اتجاه تطوير المواد المستهدفة هو: معدل تناثر عالي، والتحكم في اتجاه الحبوب، وحجم كبير، ومعدن عالي النقاء-.
يتم لحام المادة المستهدفة بواسطة "الهدف الفارغ" و"اللوحة الخلفية".
(1) الهدف الفارغ هو المادة المستهدفة التي يتم قصفها بواسطة شعاع الأيونات عالي السرعة-. وهو الجزء الأساسي من المادة المستهدفة المتطايرة ويتضمن معدنًا عالي النقاء-وتحكمًا في اتجاه الحبوب. أثناء عملية الطلاء بالرش، بعد إصابة المادة الفارغة بالأيونات، تتناثر ذرات سطحها وتتناثر وترسب على الركيزة لتشكل طبقة رقيقة إلكترونية.
(2) تلعب اللوحة الخلفية دورًا رئيسيًا في تثبيت هدف الرش، والذي يتضمن عمليات اللحام. نظرًا لأن المعادن عالية النقاء- لها قوة منخفضة، فيجب تثبيت هدف الرش في جهاز مخصص لإكمال عملية الرش. الجهاز موجود في بيئة-فولتية عالية وفراغ عالي-. ولذلك، يجب ربط هدف الرش الفارغ من المعدن فائق النقاء-عالي- باللوحة الخلفية من خلال عمليات لحام مختلفة. يجب أن تتمتع اللوحة الخلفية بموصلية كهربائية وحرارية جيدة.
يزورhttps://www.zhenanmetal.comلمعرفة المزيد عن المنتج. إذا كنت ترغب في معرفة المزيد عن سعر المنتج أو ترغب في الشراء، يرجى إرسال بريد إلكتروني إلى info@zaferroalloy.com. سوف نقوم بالرد عليك بمجرد أن نرى رسالتك.